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產(chǎn)品展示

高純鉻靶

產(chǎn)品編號(hào)：Cr-target

產(chǎn)品簡介：主要應(yīng)用于鍍制反射薄膜，膜層附著性好，蒸發(fā)速率高，質(zhì)量達(dá)到國際最先進(jìn)水平。公司可根據(jù)客戶需求生產(chǎn)各種級(jí)別的產(chǎn)品。

可定制靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm），板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm），

管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）

材料純度：>99.995%

金屬雜質(zhì)含量：（Al/Fe/Ca/Mg/Cu/Co/Ni/Ti/Mn/Si/Na/K//P/W/Mo/Zn/Sn）：<10ppm

平整度（TIR）:<20μm

局部平整度（STIR）:<10μm

翹曲度（Warp）:<50μm

上一個(gè)：高純鈦靶下一個(gè)：高純銅靶

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